日前，国家知识产权局发布第八十六号局令，公布《集成电路布图设计保护条例实施细则》。该细则已于2026年9月14日经第6次局务会议审议通过，自2026年10月30日起施行。
此次实施细则的修订，是为配合修订后《集成电路布图设计保护条例》的落地实施。修订后的《条例》已于2026年7月23日经国务院总理李强签署第842号国务院令公布，自2026年10月15日起施行，是该条例自2001年颁布以来25年间首次全面系统修订-。
实施细则主要修订三方面内容
根据国家知识产权局此前公布的修改草案征求意见稿，实施细则的修改主要包括三个方面：一是优化登记申请及相关程序，规范业务办理流程手续；二是完善复审和撤销制度，提高登记确权质量效率；三是加强布图设计专有权保护，促进布图设计实施利用。
配套过渡办法同步发布
为保障修订后《条例》的顺利实施，国家知识产权局同步制定了《关于施行修订后〈集成电路布图设计保护条例〉相关审查业务处理过渡办法》，自2026年10月15日起施行。
过渡办法明确了新旧条例的适用规则：申请日在2026年10月15日以后的布图设计登记申请，适用修订后条例的规定；申请日在此之前的，适用修订前条例的规定，但过渡办法另有特殊规定的除外。
此外，过渡办法还对以下事项作出规定：自2026年10月15日起，外国人、外国企业在中国申请布图设计登记和办理其他事务的，依照修订后条例办理；申请人应当依照修订后条例的规定提交登记申请文件；任何发现布图设计登记不符合规定的，可请求撤销登记；当事人可请求恢复权利、延长指定期限；可办理向外国人转让专有权手续、许可合同备案、出质登记；公众可请求查阅登记簿、复制件或图样纸件。
修订亮点：保护范围延伸至光子、量子集成电路
本次修订的一大亮点是将保护范围延伸至光子集成电路、量子集成电路布图设计，提前为光电融合、量子芯片构建知识产权保护底座，避免前沿赛道成果缺乏法律保护。
信息来源：国家知识产权局
发布日期：2026年9月30日